这种全新的金属表面处理工艺,仅在工件表面的分子层与等离子反应,分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米,处理深度为0.3-4.5纳米.抛光物的表面粗糙度在1MM范围内,因此等离子化学活化工件表面,去除表面分子污染层,交叉连结表面化学物质。抛光后产品特性：粗糙度降低、光洁度提高、精密度提高、坚硬耐用，缺口敏感性降低、变得光滑整齐，磨擦系数下降、磨损减少。

    适用材质：不锈钢、钛、铝、铜、银、锌和合金类等所有导电材质。

等离子抛光应用范围：

    等离子(电浆)抛光技术解决首饰表面及细孔位上的毛刺边，主要运用在首饰上的钛、铜、不锈钢等材质抛光以达至镜面效果，增强抛光面的抗腐蚀性能，有效防止氧化。

等离子抛光设备特点：

1.提高生产效率，降低生产成本 : 轻易处理内侧及孔内壁的抛光毛刺问题，抛光处理时间在几分钟之内，大幅减低人手的时间；

2.全自动控制，操作容易 : 普通人员培训后可于1~2天正常操作；

3.安全稳定，维护简单 : 设保护感应，防止意外发生，设计人性化，方便维修检查；

4.抛光均匀程度*，每件以至每批工件表面都不受人为手工影响达到一致的镜面效果。