-
真空滚筒式等离子清洗机
真空滚筒式等离子清洗机表面性能活化，应用在半导体、微纳电子、MEMS、PCB、 光学电子、光学制造、汽车电子、医疗产品、生命科学、食品行业等领域，可对各种材料的表面进行有机物去除、清洁、静电消除，化学修饰或涂层沉积。 参考价￥20000 -
立式中型等离子清洗机
立式中型等离子清洗机用于材料表面改性
主要有以下几个方面：①改变润湿性（又称浸润性）。一些有机化合物表面的润湿性对颜料、墨、粘结剂等的粘结性，对于材料表面的闪络电压及表面漏泄电流等电性能，都有很大的影响。衡量润湿性的量称为接触角。 参考价￥2000 -
中型真空等离子清洗机 可非标定制
中型真空等离子清洗机 可非标定制用于材料表面改性
主要有以下几个方面：①改变润湿性（又称浸润性）。一些有机化合物表面的润湿性对颜料、墨、粘结剂等的粘结性，对于材料表面的闪络电压及表面漏泄电流等电性能，都有很大的影响。衡量润湿性的量称为接触角。 参考价￥2000 -
大型真空等离子清洗机
大型真空等离子清洗机，活化改性处理刻蚀设备用于材料表面改性
主要有以下几个方面：①改变润湿性（又称浸润性）。一些有机化合物表面的润湿性对颜料、墨、粘结剂等的粘结性，对于材料表面的闪络电压及表面漏泄电流等电性能，都有很大的影响。衡量润湿性的量称为接触角。 参考价￥2000 -
半导体封装等离子清洗机
半导体封装等离子清洗机能有效去除键合区的表面沾污并使其表面活化，能明显提高引线的键合拉力，极大的提高封装器件的可靠性。提高芯片和封装基板的粘结浸润性，减少芯片与基板的分层，改善热传导能力，提高IC封装的可靠性稳定性，增加产品的寿命。 参考价￥2000 -
微波等离子清洗设备去胶机
微波等离子清洗设备去胶机等离子清洗机器的应用包括预处理、灰化/光致抗蚀剂/聚合物剥离、芯片碰撞、静电消除、介质蚀刻、有机污染去除、芯片减压等。使用等离子清洗机不仅能去除光致抗蚀剂和其他有机物质，而且可以活化和增厚芯片表面，提高芯片表面的润湿性，使芯片表面更有粘合力。 参考价￥20000 -
台式plasma等离子清洗机
台式plasma等离子清洗机表面性能活化，应用在半导体、微纳电子、MEMS、PCB、 光学电子、光学制造、汽车电子、医疗产品、生命科学、食品行业等领域，可对各种材料的表面进行有机物去除、清洁、静电消除，化学修饰或涂层沉积。 参考价￥20000 -
小型真空等离子清洗机
小型真空等离子清洗机表面性能活化，应用在半导体、微纳电子、MEMS、PCB、 光学电子、光学制造、汽车电子、医疗产品、生命科学、食品行业等领域，可对各种材料的表面进行有机物去除、清洁、静电消除，化学修饰或涂层沉积。 参考价￥20000 -
PLASMA等离子清洗设备 Plasma处理机
等离子清洗机（plasma cleaner）也叫等离子清洁机，或者等离子表面处理仪，等离子清洗设备 Plasma处理机是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。 参考价￥2000 -
PLASMA等离子体清洗设备 去胶机器
等离子体清洗设备 去胶机器对材料进行有效的表面净化、表面活化、表面粗化、表面蚀刻、表面沉积。等离子体清洗设备增强材料粘接性、亲疏水性 参考价￥2000 -
PLASMA等离子清洗机 灰化光刻胶聚合物剥离设备
等离子清洗机 灰化光刻胶聚合物剥离设备包括预处理、灰化/光刻胶/聚合物剥离、晶圆凸点、消除静电、介电质刻蚀、有机污染去除、晶圆减压等。使用等离子清洗，不仅*去除光刻胶和其他有机物，而且活化和粗化晶圆表面，提高晶圆表面浸润性。 参考价￥2000 -
PLASMA等离子清洗设备 活化改性处理机
等离子清洗设备 活化改性处理机应用在材料科学、高分子科学、生物医药材料学、微流体研究、微电子机械系统研究、光学、显微术、牙科医疗等领域中的污染物清除、表面活化、粘合前处理、表面化学改性、聚合物移植或表面涂覆等方面。 参考价￥2000