半导体新材料edi超纯水系统产水水质可达到15~18.25MΩ水质，可应用于电子、医药、电力（核电、光电、磁电）、光学、半导体、表面处理、化工等相关行业清洗、添加剂以及符合相关水质要求的使用，同时可为客户定制一系列小型去离子水设备，出水量较小，可满足于化验用水、小计量清晰用水要求，出水水质可根据客户要求，进行设备工艺配置。

性能优势：

1、整套系统采用全自动控制，操作简单方便;

2、整套设备全不锈材质，水箱采用全不锈钢医药专用水箱;

3、配备软水器，保证RO系统及EDI系统因硬度的影响稳定运行;

4、采用进口海德能超低压反渗透，脱盐率高，使用寿命长，运行稳定，能耗低降低20%;

5、反渗透系统采用全自动方式控制，主要元件采用进口元件，稳定性高，操作简单方便;

6、EDI系统采用了恒压调节系统，确保水质稳定;

7、采用EDI膜堆，性能稳定，使用寿命长，并通过专业技术，确保EDI系统短时停机或长时间停机时水质保持稳定

半导体新材料edi超纯水系统

工艺流程：

    原水(深井水)——原水箱——原水增压泵——多介质过滤器——活性炭过滤器——树脂软化系统(或加药系统、PH值调节系统)——5微米过滤器——反渗透主机系统——臭氧杀菌系统——纯净水箱

应用范围：

    1、工业生产用软化水、纯水等，如：电子、电镀、线路板、电路板、化工、饮料、食品、洗涤、涤染等。

    2、纯水、超纯水的预处理和深度处理。

    3、井水等日常用水的处理品