*均质分散乳化机性能特点

　粘弹剂*研磨混合均质分散机，注射剂，指的是药物制成的供注入体内的无菌溶液（包括乳浊液和混悬液）以及供临用前配成溶液或混悬液的无菌粉末或浓溶液。注射剂作用迅速可靠，不受ph、酶、食物等影响，无首过效应，可发挥全身或局部定位作用，适用于不宜口服药物和不能口服的病人。更多详情请致电上海依肯销售工程师 徐工 1-8-2-0-1-8-9-1-1-8-3，公司设有专门实验室可以免费为客户提供设备购买前的验证测试。

　　注射剂按注射部位可分为皮内注射剂，皮下注射剂，肌肉注射剂，静脉注射剂，脊椎腔注射剂几类；按剂型分有液体注射剂，注射用粉剂，注射用片剂几种。

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*均质分散乳化机使用说明

注射剂制备:主要有原料配备和辅料配制两部分，原料配制主要为中药提取物，首先必须对原料进行预处理，挑选——洗涤——切制——干燥——粉碎——灭菌；其中上海依肯高剪切胶体磨CM2000系列非常适合注射剂原料粉碎，9000rpm高转速，23mps线速度，0.2mm磨头间隙带来的强大剪切力，被加工物料通过本身的重量或外部压力加压产生向下的螺旋冲击力，透过定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。管线式结构，全程*，卫生达到医药级无菌效果。物料颗粒***终可达纳米级，且分布范围非常窄，是注射剂原料制备粉碎设备的*。

　IKN胶体磨与国内胶体磨的性能比较:

　　一、转速和剪切速率:

　　IKN胶体磨，可选择德国机械密封，转速可以达到15000转

　　F=23/0.7X1000=32857 S-1

　　F=40/0.7/X1000=57142 S-1

　　通过转速比较可知，这是乳粉碎研磨的重要因素，相当于前者是后者的2-3倍

　　二、胶体磨头和间距:

　　IKN胶体磨，可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，超高速模块，CM胶体模块，CMO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块。

　　间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工

　　国内胶体磨，只有一种模块头，粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差

　　三、机械密封:

　　IKN胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至***低，可24小时不停运转

　　国内胶体磨，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁

　　四、清洗:

　　IKN胶体磨，立式，皮带驱动，易于维护，可有效保护马达及齿轮箱，防止损坏,符合流体流动原理，具有CIP/SIP在线清洗，在线杀菌功能，无需拆卸，机器设计*，立式结构符合流体原理，清洗更简便

　　国内胶体磨，卧式或立式（马达一体式），轴承部分受力较大，易于损坏，维护保养复杂，

　　通常情况，需要拆卸机器进行清洗

　　高剪切胶体磨运行原理:

　　高剪切胶体磨在电动机的高速转动下物料从进口处直接进入高剪切破碎区，通过一种特殊粉碎装置，将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎区，在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下，将已粉碎细化的物料重新压入精磨区进行研磨破碎。精磨区分三级，越向外延伸一级磨片精度越高，齿距越小，线速度越长，物料越磨越细，同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一级流体的方向速度瞬间发生变化，并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等，在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之后，从而产 生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。液料的***小细度可达0.5um。

 CM2000/4中试型胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。 CM2000/4中试型胶体磨的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。 CM2000/4中试型胶体磨的定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

    公司另外一项*的创新，就是锥体磨CMO2000系列，它的设计使其功能在原有的CM2000的基础上又进了一步。由于这项创新，CMO2000能够湿磨和研磨，产生的颗粒粒径甚至比胶体磨CM2000还小。研磨间隙可以无级调节，从而可以得到精确的研磨参数。 研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料，从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成，并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域，可以输送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和后的粒径大小都比胶体磨CM的效果更加理想。

它们的主要区别

CM2000/4（LP系列）为实验室胶体磨的技术参数：功率1.5-2.2KW,转速0-14000rpm,线速度 0-40m/s,电压380V,机器产量为 0– 700 升/小时（水），重量35KG,尺寸 (长宽高）(450X250X350)MM，LP使用轴封（PTFE 环），在正常的情况下，一般轴封可以使用3000-4000次。LP不能24小时连续使用，一般多可以使用连续半个小时，这要依据料液的温度和转速而定。LP也可以通过变换模块，可以实现多功能多用途。是实验室生产的选择。

  CM2000/4（PP系列）为中试型胶体磨的技术参数：功率2.2-4KW,转速0-14000rpm,线速度 0-40m/s，电压380V,机器产量为 0– 700 升/小时（水），重量45KG, 尺寸 (长宽高）((450X250X350)MM，PP使用双机械密封，可24小时不停机连续生产，并通冷媒对密封部分进行冷却。通过变换模块，可以实现多功能多用途。此款中试型胶体磨比普通的胶体磨的速度达到4-5倍以上，研磨效果非常好，转速可以达到14000RPM。机械密封和机械设计符合3A健康标准，是中试和小批量生产的选择。

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