过氧化氢（H2O2）是许多行业在生产工艺中广泛使用的重要化学品。许多应用（例如半导体制造）都需要使用高纯度、低污染的H2O2溶液。有效地测量H2O2溶液中的杂质浓度（特别是有机碳浓度），是确定过 H2O2溶液在工艺中的适用性以及 H2O2溶液对工艺和产品的影响的关键。

  H2O2溶液中的可溶性有机杂质会对半导体工艺和半导体产品造成影响。由于基体产生化学反应，因此分析 H2O2溶液中的有机物含量极为困难。此外，H2O2溶液中的有机化合物很稳定，即使在高反应条件下也难以被*氧化。要想对 H2O2溶液进行准确而稳健的总有机碳分析，就需要一种能够有效氧化稳定的有机化合物的仪器和方法。