由于许多重要的待测元素在使用电感耦合等离子体 质谱仪（ICP-MS）分析时会受到等离子产生的分子 和同质异位素的干扰（如：ArO+，ArH+，和Ar+）， 因此对许多重要的待测元素的分析都很困难，这进 一步增加了分析硅杂质的难度和复杂性。通过向通 用池中通入适当的低流量反应气和使用*的动态 带通调谐（DBT）的功能，就能够在离子束进入四 级杆质谱前用化学方法将干扰去除，而这两个功能 都是PerkinElmer公司的NexION® 300 ICP-MS所兼具 的。

NexION 300 ICP-MS的另一个优点是能够一直在 强劲的高温等离子体状况下运行，从而有效分解样品 基质。此外，NexION 300 ICP-MS能够在一次分析运 行中，同时包括使用反应模式（使用反应气）分析和 使用标准模式（不使用反应气）分析的元素，这就不 需要分析两次样品或使用两种不同的等离子条件。仪 器的软件可以将两种模式（反应模式和标准模式）得 到的结果合并，并在一份报告中打印出来。