真空井式坩埚炉，集控制系统与炉膛一体，其中炉膛保温材料采用整体真空吸附成型，程控硅碳棒加热。超大口径的石英炉腔和真空密封法兰系统，可在流动气氛和真空状态下快速加热样品。主要用于金属、非金属及化合物材料进行烧结、融化、分析。控制面板配有智能温度调节仪，控制电源开关、主加热工作/停止按钮，以便随时观察。　　

坩埚炉的技术参数

 工作温度：≤1100℃

zui高温度：1200℃ 　

控温方式：智能化可编程控制 　　

升温zui快速率：40℃/min 　　

恒温精度：±1℃ 　　

炉门结构：上开式

工作电源：AC220V 　　

额定功率：3KW 　　

主要特点：　　 　

硅碳棒作为发热元件，可加热到1200℃ 高纯石英杯（2520不锈钢）：250外径x 230内径x 300高mm 。高精度不锈钢针阀和真空表及真空法兰可直接使用。内置30段可编程精密数字温度控制器可控制升降温速率。 　　

坩锅炉主要应用： 　　

煅烧真空或惰性气体的高纯度化合物 退火或扩散半导体晶片多达6“直径