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EZ4-S-PP匀胶机（耐腐蚀PP外壳）
EZ4-S-PP匀胶机适用于给小碎片至4英寸晶圆大小的基底旋涂光刻胶及其他试剂，使用工业级直流马达和单片机控制，文本显示器人机界面。EZ4-S-PP匀胶机设计结构紧凑、简单易用，可多步程控操作，尺寸小巧，易于放入手套箱内操作。EZ4-S-PP采用耐腐蚀PP外壳，PP材料内腔，经久耐用。... 参考价面议 -
Cchip-0019高深宽比紫外光刻机
微流控芯片的设计结构一般深宽比较大，针对微流控芯片这一特点，中芯启恒自主研发生产了Cchip-0019适用于高深宽比工艺的光刻机。该设备采用目前的LED光源，紫外波长365nm，光源纯度高，辐射能量均一可调... 参考价面议 -
URE-2000/35L光刻机
（1）曝光面积：100mm×100mm； （2）分辨力：1.0um（胶厚2.0 um的正胶，365nm波长）（3）对准精度：≤±0.8μm... 参考价面议 -
URE-2000/35光刻机
1. 曝光面积：4英寸；2.曝光波长：365nm；3. 分辨力：0.8um；4.对准精度：±0. 8um... 参考价面议 -
URE-2000A光刻机
产品介绍：1.曝光面积：150mmX150mm；2. 曝光波长：365nm；3.分辨力：0.8-1um ；4.对准精度：±0. 6um... 参考价面议 -
URE2000/17光刻机
产品介绍:1.曝光面积：4英寸 2.曝光波长：365nm 3.分辨力：1.5um（胶厚2 um的正胶）4.对准精度：±1um。... 参考价面议 -
URE-2000B光刻机
产品介绍: 1.曝光面积：100mmX100mm 2.曝光波长：365nm 3.分辨力：0.8um（胶厚2mm的正胶）4.对准精度：±0.6um... 参考价面议 -
URE-2000/35AL光刻机
产品介绍:主要技术参数：（1）曝光面积：150mm×150mm； （2）照明不均匀性： £4%（ f150mm范围）；（3）分辨力：1.0um（365nm波长）（4）对准精度：≤±0.8um... 参考价面议 -
URE-2000/35A光刻机
产品介绍:1．技术特征—非常适合工厂（效率高，操作傻瓜型，全自动）和高校教学科研（可靠性好，演示方便），采用自动找平，具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝以及接近式曝光四种功能。... 参考价面议 -
URE-2000/25光刻机
产品介绍:1. 曝光面积：4英寸；2. 曝光波长：365nm；3. 分辨力：1.2um（胶厚2 um的正胶）；4. 对准精度：±0.8um ... 参考价面议 -
电晕机-BD-20ACV
产品名称：BD-20ACV 电晕机（美国Electro） 产品介绍： 产品应用： 实验室小巧型电晕机，可以用于材料表面处理，高分子材料键合等 产品参数：1.输出电压:1000... 参考价面议 -
全自动菌落计数器
主要特点：
CCD真彩摄像头，7次变焦
6种灯光和背景组合
亮度，对比度和灵敏度由软件自动优化
所选菌落Z小规格：0.1毫米
自动分离成片菌落
创建多边形区域
LED灯使用寿命长
以Excel , PDF 输出数据
软件有法语，英语，日语，汉语，俄语，西班牙语
与数据链接可追溯系统兼容 参考价面议