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Luceo偏振镜LSM-9001NIR
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Lexitek衍射元件Near-Index-Match
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Laser Materials激光棒08NY-6.35-100-W1/W1-A/A
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Lansdale双模数预分频器ML12016
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KAYA Instruments帧抓取器KY-FGK-II-CXP-2ch
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Johanson Technology低通滤波器5235CR45A0180
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ISOMET紫外声光调制器M1136B-FS80L-H
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Industrial Fiber Optics多模连接器51 0544
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Glass Dynamics标准顶空瓶ZGD36020-2238
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Goodfellow金单晶盘AU00-SC-000234
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Hirox角度支架-ST-B500ST-B500
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Holographix LLC光学扩散器1 to 2 Degree
面议SUSS MicroOptics通过使用反应离子刻蚀（RIE）将所需的结构转移到基板上，从而在硅片和熔融二氧化硅中以晶圆级制造定制的单片微光学器件。该技术可提供高分辨率和均匀性，并能够合并复杂的形式，例如沟槽，空腔，基座，对准点和识别标记。组件可以镀AR和/或金属化，并以多种格式交付。
没有孔的MLA：熔融石英，透镜，四边形
网格
间距：130um
ROC：1.218mm±5％
无增透膜
形状：矩形
厚度：0.9mm
尺寸：15mm x 15mm±0.05mm
